सम्पर्क गर्नुहोस्
Leave Your Message
अर्धचालक र इलेक्ट्रोनिक्स-एफएस-लेजर अनुप्रयोग

विश्वविद्यालय र अनुसन्धान तथा विकास केन्द्रहरू

सूक्ष्म र न्यानो स्केलमा पदार्थको अन्वेषण गर्नु आधुनिक विज्ञानको सिमानामा छ। फेमटोसेकेन्ड लेजरहरू, तिनीहरूको अल्ट्रा-सर्ट पल्स (१०⁻¹⁵s) र उच्च शिखर शक्तिको साथ, लगभग कुनै पनि सामग्रीमा गैर-सम्पर्क "कोल्ड एब्लेसन" सक्षम गर्दछ।

हामी विश्वविद्यालयहरू र अनुसन्धान तथा विकास केन्द्रहरूको लागि लचिलो, उच्च-परिशुद्धता माइक्रो-न्यानो निर्माण समाधानहरू प्रदान गर्दछौं। प्रशोधन संयन्त्रहरूको अध्ययनको लागि होस् वा माइक्रो-डिभाइस प्रोटोटाइपिङको लागि, हाम्रो प्रविधिले सीमितताहरू तोड्छ, क्रस-डिसिप्लिनरी नवप्रवर्तनलाई सशक्त बनाउँछ।

अनुसन्धान सीमाहरू

१. लेजर-म्याटर अन्तरक्रिया
अनुसन्धानकर्ताहरूले उच्च-प्रभाव प्रकाशनहरूको लागि बलियो डेटा उत्पन्न गर्न विभिन्न ऊर्जा घनत्वहरू अन्तर्गत प्वाल निर्माण संयन्त्रहरूको अनुसन्धान गर्दै, फेमटोसेकेन्ड, पिकोसेकेन्ड, र न्यानोसेकेन्ड पल्सहरू बीचको एब्लेशन थ्रेसहोल्ड तुलना गर्न सक्छन्।
२. सतह कार्यात्मककरण
फेमटोसेकेन्ड लेजर प्रणालीहरूले सतह संरचना र बनावटहरूको सटीक परिमार्जन सक्षम गर्दछ। यसले धातु, गिलास, वा पोलिमरहरूमा माइक्रो-न्यानो बनावट सिर्जना गर्न अनुमति दिन्छ जसले सुपरहाइड्रोफोबिक, सुपरहाइड्रोफिलिक, एन्टी-आइसिङ, एन्टी-रिफ्लेक्टिभ, वा सेल-आसंजन गुणहरू प्राप्त गर्दछ।
३. द्रुत माइक्रो-उपकरण प्रोटोटाइपिङ
फोटोलिथोग्राफीको उच्च लागत र जटिलतालाई पार गर्नुहोस्। हाम्रो मास्कलेस, प्रत्यक्ष-लेखन प्रक्रिया सिलिकन, सिरेमिक र पातलो फिल्महरूमा काम गर्दछ। यो MEMS सेन्सरहरू, माइक्रोफ्लुइडिक चिप्स, मास्कहरू, र फोटोइलेक्ट्रोडहरूको द्रुत प्रोटोटाइपिङ र पुनरावृत्तिको लागि व्यापक रूपमा प्रयोग गरिन्छ।

प्रयोगशाला-ग्रेड क्षमताहरू

१. अल्ट्रा-फाइन माइक्रो-ड्रिलिंग
हामी परम्परागत सीमितताहरू तोडेर १०:१ सम्मको पक्ष अनुपात प्राप्त गर्छौं। ३-५μm को न्यूनतम व्यासको साथ, हाम्रो प्रक्रियाले उच्च गोलाकारता र स्थिरता सुनिश्चित गर्दछ। यसले सकारात्मक टेपर, नकारात्मक टेपर, शून्य-टेपर सीधा प्वालहरू, र विभिन्न आकारका प्वालहरूलाई समर्थन गर्दछ।
२. क्षति-रहित सटीक काटन
नाजुक पन्नीहरू र माइक्रो-मेकानिकल संरचनाहरूको लागि, फेमटोसेकेन्ड लेजर काट्नेले कुनै थर्मल विकृति बिना चिल्लो, बर्र-मुक्त किनारहरू सुनिश्चित गर्दछ। केवल 5μm को न्यूनतम केर्फ/रिब चौडाइको साथ, यो धातु मास्क र सटीक घटकहरूको तनाव-मुक्त काटनको लागि उपयुक्त छ।
३. गहिराइ-नियन्त्रित नक्काशी
माइक्रोन-स्तर गहिराई नियन्त्रण गर्न सक्षम, हामी ब्लाइन्ड स्लटहरू, सतह माइक्रो-बॉसहरू, र चयनात्मक फिल्म हटाउने सटीक नक्काशी सक्षम गर्छौं। विशिष्ट अनुप्रयोगहरूमा २५μm वर्ग प्वाल एरे र सर्पेन्टाइन इलेक्ट्रोड ढाँचाहरू समावेश छन्, जुन एकीकृत सर्किट (IC) र माइक्रोइलेक्ट्रोनिक्स अनुसन्धानको लागि आदर्श हो।

हामीसँग किन साझेदारी गर्ने?

सम्पूर्ण प्रयोगशालाको लागि एउटै प्रणाली। कडा सिरेमिक र हीरादेखि ताप-संवेदनशील पोलिमर र जैविक तन्तुहरूसम्म, फेमटोसेकेन्ड लेजरहरूले यो सबै ह्यान्डल गर्छन्।
हामी केवल उपकरण मात्र प्रदान गर्दैनौं; हामी पूर्ण कार्यप्रवाहलाई समर्थन गर्छौं - नमूना परीक्षणदेखि प्रमाणीकरण प्रक्रियासम्म - नयाँ वैज्ञानिक खोजहरूमा तपाईंको मार्गलाई तीव्र पार्दै।

आवेदन पूर्वamples

१० सेमी लिनियर एन्कोडर ग्रूभ एचिंग

१० सेमी लिनियर एन्कोडर ग्रुभ एचिंग | गहिराई: २०μm±१μm

एपर्चर काट्ने, तीखा आन्तरिक कुनाहरू

क्वाड्रन्ट प्लेट | सामग्री: टंगस्टन; तीव्र कोण: ४०°; तीव्र कोण लम्बाइ: ४०μm ± २μm

सेल क्रमबद्ध गर्ने उपकरण fs-लेजर माइक्रोमेसिनिङ

सेल क्रमबद्ध उपकरण fs-लेजर माइक्रोमेसिनिङ: ११९.५°

fs-लेजर द्वारा सेल-आसंजन गुणहरू माइक्रोस्ट्रक्चर

प्लेटिनम-इरिडियम मिश्र धातु सतह सूक्ष्म संरचना: नक्काशी गहिराई: ७μm±०.५μm नक्काशी चौडाइ: ५μm±०.५μm

जटिल आकारको माइक्रो-इलेक्ट्रोड काट्ने

जटिल आकारको माइक्रो-इलेक्ट्रोड काट्ने: स्टेनलेस स्टील, मोटाई: ०.०१ मिमी, काट्ने चौडाइ: ५μm ± ०.५μm

क्र्याक-रहित र चिप-रहित GaN एचिंग

GaN एचिंग: क्र्याक-रहित र चिप-रहित

एफएस-लेजर स्लिट्स काट्ने - मोनो

fs-लेजर स्लिट्स काट्ने | चौडाइ: ५μm

एफएस-लेजर स्लिट्स काट्ने

fs-लेजर स्लिट्स काट्ने | चौडाइ: २μm

लिनियर एन्कोडरहरूको लागि ग्रूभ एचिंग

लिनियर एन्कोडर ग्रूभ इचिंग | चौडाइ: ४μm±१μm

माइक्रो-मेकानिकल संरचना काट्ने

माइक्रो-मेकानिकल संरचना काट्ने | टंगस्टन, काट्ने चौडाइ: ६μm ± ०.५μm, मोटाई: ०.०५ मिमी

प्रोफाइल गरिएको माइक्रो-इलेक्ट्रोड काट्ने (स्टेनलेस स्टील)

प्रोफाइल गरिएको माइक्रो-इलेक्ट्रोड काट्ने | स्टेनलेस स्टील; न्यूनतम चौडाइ: ६.५μm

तीव्र आन्तरिक कोण काट्ने मोनो

तीव्र आन्तरिक कोण काट्ने | टिप चौडाइ: ६μm

०१०२०३०४०५०६०७०८०९

अन्त्य-देखि-अन्त सेवाहरू

contact us

Start a Conversation

Ready to solve your precision challenges? Fill out the form below and our team will respond within 24 hours.

Contact information

Address

F1-F2, Building 4, Jianfa-Xinmei Industrial Park, No. 21 Gongtang Road, Guangming District, Shenzhen, China.

1647831b1f9f653d5ce88b0294a12170
yx-contact-bg