ML-NEBULA_ फेमटोसेकेन्ड लेजर न्यानोस्ट्रक्चर मल्टी-बीम अनुसन्धान र विकास उपकरण.jpg

ML-NEBULA: फेमटोसेकेन्ड लेजर न्यानोस्ट्रक्चर मल्टि-बीम अनुसन्धान र विकास उपकरण

प्रत्येक वैज्ञानिक सफलता सीमाको चुनौतीबाट उत्पन्न हुन्छ। माइक्रोन, सबमाइक्रोन र न्यानोमिटरको संसारमा, उपकरणहरूको शुद्धताले अन्वेषणको गहिराइलाई परिभाषित गर्दछ। MONO ले प्रत्येक वैज्ञानिक र इन्जिनियरलाई अनुसन्धानमा अगाडि रहन मद्दत गर्दछ, सबैभन्दा उन्नत फेमटोसेकेन्ड लेजर माइक्रोमेसिनिङ प्रविधि प्रयोग गरेर तपाईंको विचारहरूलाई वास्तविकतामा सही रूपमा परिणत गर्दछ।

ML-NEBULA एक फेमटोसेकेन्ड लेजर न्यानोस्ट्रक्चर बहुआयामिक अनुसन्धान र विकास उपकरण हो जुन विशेष रूपमा बहु-कार्यात्मक र उच्च-परिशुद्धता अनुसन्धान र विकासको लागि डिजाइन गरिएको हो। यो वैज्ञानिक प्रयोगशालाहरू र अनुसन्धान र विकास केन्द्रहरूको लागि एक आदर्श विकल्प हो जसलाई विभिन्न कार्यहरू बीच स्विच गर्न र चरम परिशुद्धता र लचिलो समाधानहरू पछ्याउन आवश्यक छ। उपकरणले नानोस्केल माइक्रोमेसिनिंग क्षमताहरू प्रदान गर्दछ, सतह उपचारदेखि आन्तरिक प्रत्यक्ष लेखनसम्म, प्रोटोटाइप उत्पादनदेखि सानो-ब्याच उत्पादनसम्म, सबै एउटै मेसिनबाट पूरा गर्न सकिन्छ।

❑ कार्यात्मक सतह माइक्रो-न्यानो संरचना निर्माण

❑ अप्टिकल वेभगाइड प्रत्यक्ष लेखन प्रशोधन

❑ माइक्रोफ्लुइडिक चिप निर्माण

❑ नानोस्केल लाइनविड्थ ग्रेटिंग लिथोग्राफी

❑ चिरा परेको डायफ्राम/एपर्चर डायफ्राम प्रशोधन

हामीलाई सम्पर्क गर्नुहोस्

उत्पादन सुविधाहरू

बहु-अप्टिकल मार्ग र बहु-फोकस कम्पोजिट प्रशोधनलाई समर्थन गर्नुहोस्;
बहु-आयामी बीम आकार दिने र नियन्त्रण कार्यहरू;
२४/७ बीम निर्देशन र गुणस्तर पत्ता लगाउने;
उत्कृष्ट मेकानिकल र थर्मल स्थिर उपकरण आधार;
न्यानो, सब-माइक्रोन र माइक्रोन स्केलहरू समेट्ने परिशुद्धता प्रशोधन गर्ने;
नानोजुल-स्तरको पल्स ऊर्जा सटीक नियन्त्रण प्रणाली;
नानोस्केल स्थिति शुद्धता;
बहु-अक्ष लिंकेज सटीक प्रशोधन।

उत्पादन हाइलाइटहरू

कार्यात्मक सतह माइक्रो-न्यानो संरचना तयारी

❑ विशेष अप्टिकल (जस्तै मेटालेन्स, ध्रुवीकरण नियन्त्रण), मेकानिकल (जस्तै सुपरहाइड्रोफोबिक, स्व-सफाई), र विद्युतीय (जस्तै लचिलो इलेक्ट्रोड, सेन्सर) गुणहरू भएका सतह माइक्रो-न्यानो संरचनाहरू विकास गर्न प्रयोग गरिन्छ। यसले सामग्री विज्ञान र इन्टरफेस इन्जिनियरिङ जस्ता क्षेत्रहरूमा अत्याधुनिक अनुसन्धानलाई समर्थन गर्दछ।

अप्टिकल वेभगाइड प्रत्यक्ष लेखन: माइक्रोफ्लुइडिक चिप निर्माण

❑गिलास र क्रिस्टल जस्ता पारदर्शी सामग्रीहरू भित्र 3D अप्टिकल पथ संरचनाहरू सिर्जना गर्दछ। फोटोनिक एकीकृत चिप्स र अप्टिकल फाइबर सेन्सरहरूको अनुसन्धान र विकासको लागि उपयुक्त, साथै माइक्रोफ्लुइडिक प्रणालीहरूमा माइक्रोच्यानलहरू, मिक्सरहरू र प्रतिक्रिया कक्षहरूको सटीक प्रशोधनको लागि।

नानोस्केल लाइन चौडाइ ग्रेटिंग लेखन

❑अर्को पुस्ताका अप्टिकल उपकरणहरू (जस्तै स्पेक्ट्रोमिटर, ग्रेटिंग सेन्सरहरू) र सूचना भण्डारण उपकरणहरू (जस्तै न्यानोस्केल भण्डारण एकाइहरू) विकास गर्दछ। परम्परागत प्रशोधन प्रविधिहरूको रिजोल्युसन सीमा तोड्दै, न्यानोस्केल लाइन चौडाइ ग्रेटिंगहरूको उच्च-परिशुद्धता लेखनलाई महसुस गर्दछ।

उच्च-परिशुद्धता स्लिट/डायाफ्राम प्रशोधन

❑अप्टिकल प्रणालीहरू (जस्तै लिथोग्राफी मेसिनहरू, माइक्रोस्कोपहरू) र परिशुद्धता उपकरणहरू (जस्तै कण डिटेक्टरहरू) को लागि उच्च-परिशुद्धता स्लिट र डायाफ्राम कम्पोनेन्टहरू प्रदान गर्दछ, अप्टिकल उपकरणहरूको प्रदर्शन स्थिरता र परिशुद्धता स्थिरता सुनिश्चित गर्दै।

प्राविधिक विशिष्टताहरू

वस्तु	विवरणहरू
लेजर	फेमटोसेकेन्ड लेजर (१०३०/५१५/३४३ एनएम)
प्रशोधन क्षेत्र	५०० मिमी × ५०० मिमी	३० मिमी × ३० मिमी
स्थिति निर्धारण शुद्धता (X/Y/Z)
प्रशोधन योग्य सामग्रीका प्रकारहरू	समतल, बेलनाकार, गोलाकार, 3D घुमाउरो सतहहरू, आदि, अनुकूलन योग्य संयोजन
सामग्री प्रशोधन गर्दै	गहिराइ-नियन्त्रित नक्काशी, कार्बन-मुक्त काटन, प्वालबाट ड्रिलिंग, न्यानो निर्माण, आदि, अनुकूलन योग्य संयोजन
न्यूनतम प्वाल व्यास	≥५००nm, आवश्यकता अनुसार अनुकूलन योग्य
न्यूनतम प्रशोधन योग्य रेखा चौडाइ	≥३००nm, आवश्यकता अनुसार अनुकूलन योग्य
प्रशोधन योग्य प्वाल व्यास दायरा	≥२००nm, आवश्यकता अनुसार अनुकूलन योग्य
प्वाल व्यास परिशुद्धता	≥±५०nm, आवश्यकता अनुसार अनुकूलन योग्य